文/李智禧
隨著中國半導體晶片技術的不斷發展，出現了突破美國強力制裁的徵兆。據悉，中國上海微電子設備集團(SMEE,Shanghai Micro Electronics Equipment Group Co.1)開發出了可用於製造28納米晶片的光刻機，給美國等西方世界帶來了不小的衝擊。
開發28納米用光刻機？
19日，彭博社引述中國張江集團在微信上發表的文章，報導了這一消息並評價道：引領中國半導體技術的SMEE終於有可能突破美國強有力的技術壁壘和製裁，張江集團是SMEE的第四大股東上海張江高科技公司的母公司，事實上是SMEE的大股東。
一直以來，美國在努力阻止中國發展晶片技術，但從此次消息中可以看出，中國不斷突破這種制裁，為實現所謂的半導體崛起而竭盡全力，領先的企業就是SMEE，中國甚至平時就對SMED自豪稱，這是可以與世界半導體設備技術領先的荷蘭ASML競爭的中國希望，SMEE最近公開表示，在晶片製造設備領域實現了技術革新，引起了人們的關注。
如果屬實，則意味著被列入美國黑名單的中國企業在克服美國晶片製裁的鬥爭中取得了進展，SMEE，為實現半導體自立的中國希望，據悉，當天SMEE繼上個月已經推出7納米晶片的筆電後，此次又開發了28納米晶片設備，公佈該消息的大股東張江集團為了克制對此事的提及，在修改微信的帖子之前SMEE的股價暴漲了8%。
張江集團在修改後的微信上內容是，SMEE正在致力於構建高級光刻機。僅從這一事實來看，與SMEE是否真的成功開發相關設備無關，可以推測出這段時間的努力取得了相當大的成果。
美國施壓荷蘭ASML無法輸出，但中國取得了相當大的成果，此前，美國商務部從去年底開始爲阻止中國試圖構建世界水平的晶片產業而傾注力量，同時將中國的SMEE列入黑名單。
此外，由於美國的壓力，荷蘭當局沒有授權該公司出口，ASML無法向中國提供EUV設備。儘管如此，還傳出了像此次SMEE成功開發28納米設備，28nm晶片於2011年首次上市，但是中國的曝光技術比荷蘭ASML落後了約20年。專家分析說，此次SMEE的成功意味著中國與其他領先企業之間的差距可能縮小到幾年左右，28nm晶片仍然是包括智慧型手機和電動汽車在內的眾多產品所必需的，因此，美國和歐洲當局認為，中國加快生產這種半導體設備的速度是不尋常的。
